Вакуумная установка для двустороннего или одностороннего напыления с ионной очисткой и дисковым подложкодержателем
Вакуумная установка «ATIS-500» предназначена для нанесения покрытий методом магнетронного распыления материала мишени с предварительной ионно-лучевой очисткой. Вакуумная установка позволяет наносить покрытия как на одну, так и на обе стороны подложки в едином вакуумном цикле.
Нанесение покрытий осуществляется на подложки, установленные на подложкодержатель дискового типа.
Особенности:
- Возможность установки до 8-и технологических устройств (до 4-х устройств сверху и до 4-х устройств снизу)
- Система нагрева подложек до 400 °С
Технические характеристики:
| Предельное остаточное давление в чистой технологической вакуумной камере | 4х10-4 Па |
| Размер подложки (при использовании стандартного подложкодержателя) | 60×48 мм |
| Максимальное количество подложек в загрузке (при использовании стандартного подложкодержателя) | 35 шт |
| Предельная неравномерность покрытий по толщине | ± 2,0 %
|
| Контроль покрытий | – Система измерения сопротивления «свидетеля»
– Система кварцевого измерения толщины – Контроль по времени |
Технологические устройства:
- DC-магнетрон (возможность установки до 6 шт.)
- Ионный источник очистки (возможность установки до 2 шт.)
- RF-магнетрон (опция)
Отзывы
Отзывов пока нет.