Система ионно-лучевого распыления для высокоточной оптики с высокой производительностью
Вакуумная установка оснащена высокочастотным ионно-лучевым источником распыления и ионно-лучевым источником очистки и ассистирования, а также высокочастотными нейтрализаторами заряда ионов. Система широкополосного и одноволнового оптического контроля по пролетающему свидетелю позволяет проводить процессы нанесения покрытий в полностью автоматическом режиме и существенно увеличивает выход годных изделий. Применение безмасляных откачных средств, ультра-высоковакуумное исполнение установки, а также наличие шлюзовой вакуумной камеры с роботизированной загрузкой позволяет добиться максимальной чистоты проведения технологических процессов.
Технологические устройства:
- Высокочастотный ионно-лучевой источник распыления
- Высокочастотные нейтрализаторы заряда
- Высокочастотный ионно-лучевой источник очистки и ассистирования
Примеры использования:
- Лазерные зеркала высокой мощности
- Узкополосные фильтры
- Режекторные фильтры
- Поляризаторы
- Светоделители
- Покрытия с переменным показателем преломления
- Широкополосные просветления
- Просветление на лазерные диоды
- Покрытия на оптоволокно
- Покрытия с низким уровнем дефектности и минимальными оптическими потерями
- Различные сложные оптические покрытия с числом слоев > 100
Качество покрытия:
- Низкая дефектность покрытий
- Минимальные оптические потери
- Высокая лазерная прочность (LIDT)
- Малая шероховатость поверхности
- Высокая плотность пленки
- Высокая адгезия
- Низкая чувствительность к влажности
Технические характеристики:
| Занимаемая площадь | 3490×2730×2460 мм (Д×Ш×В) |
| Вес оборудования | 5500 кг |
| Источник напыления | Сеточный ВЧ ионный источник с ВЧ нейтрализатором |
| Источник ассистирования | сеточный ВЧ ионный источник с ВЧ нейтрализатором |
| Подложкодержатель и площадь покрытия | Одичночный диск Ø 440 мм (площадь 1520 см2)
Планетарный 7 x Ø 210 мм (площадь 2200 см2) Планетарный 4 x Ø 350 мм (площадь 3840 см2) Другие планетарные диски по запросу |
| Равномерность покрытия | ≤±0,25 % для планетарного 7 x Ø 210 мм
≤±0,5 % для планетарного 4 x Ø 350 мм ≤±0,5 % для одиночного диска Ø 440 мм |
| Система управления процессом | Система автоматического оптического контроля OCP:
OCP Broadband (спектральный), OCP Singlewave (одноволновой), OCP Duo (2 в 1) |
| Материалы подложки | стеклокерамика, хроматическое и ахроматическое оптическое стекло, кварц, фтористый калий, сапфир и т.д. |
| Число мишеней, макс. | 4 шт. |
| Материалы для напыления | Ti, Ta, Nb, Zr, Hf, AI, Si, SiO2 и др. |
| Скорость нанесения покрытия | До 4 Å /сек (зависит от материала) |
| Температура подложки в процессе (без нагревателя) | <100 оС |
| Температура нагрева подложки | <250 оС |
| Равномерность нагрева подложки | ±2 оС |
| Предельное давление | 5х10-5 Па |
| Откачная система | Сухой механический и криогенный насосы
Возможна установка турбомолекулярных насосов |
Отзывы
Отзывов пока нет.