Вакуумные напылительные установки с технологией электронно-лучевого испарения для УФ, видимого, ближнего и среднего ИК диапазонов
Применение:
- Антибликовые покрытия
- Светоделители
- Узкополосные фильтры
- Высокоотражающие покрытия
- Поляризационные фильтры
- Покрытия для лазерной оптики
- Покрытия на ИК диапазон на различные подложки
- Покрытия на УФ диапазон
Особенности и оснащение:
- Подложкодержатель – купол или планетарный механизм
- Специальные держатели для нестандартных подложек (индивидуальная разработка)
- До 2-х систем электронно-лучевого испарения с различными тиглями
- Источник резистивного испарения
- Ионно-лучевой источник ассистирования различного типа (УАС, торцевой холловский источник ионов, высокочастотный ионный источник)
- Система полностью автоматического контроля процесса по оптическим параметрам покрытий
- Система нагрева подложек
Технологические устройства:
- Система электронно-лучевого испарения
- Система резистивного испарения
- Высокочастотный ионно-лучевой источник очистки и ассистирования
- Ионно-лучевой источник очистки и ассистирования
Технические характеристики:
| Диаметр технологической вакуумной камеры | 900 мм |
| Диаметр подложкодержателя купольного типа | 800 мм |
| Максимальное количество подложек диаметром 30 мм в загрузке | 320 шт |
| Максимальный диаметр подложки для подложкодержателя купольного типа | 300 мм |
| Предельная неравномерность покрытий по толщине для всей площади подложкодержателя купольного типа | <± 2 % |
| Предельная неравномерность покрытий по толщине для всей площади подложкодержателя планетарного типа | <± 1,5 % |
| Предельное остаточное давление в чистой технологической вакуумной камере | 8х10-5 Па |
| Контроль покрытий | – Система кварцевого измерения толщины
– Система одноволнового контроля |
| Покрытия | MgF2, SiOX, ZnS, Ta2O5 и др. |
Отзывы
Отзывов пока нет.