ВЧ-источники плазмы/сеточные ионные источники

Индуктивный ВЧ разряд возбуждается током, текущим по водоохлаждаемому индуктору (антенне). ВЧ мощность, приложенная к индуктору, создаёт вихревое электрическое поле в вакуумной камере, которое и обеспечивает генерацию плазмы. В индуктивном ВЧ разряде низкого давления мощность ВЧ-генератора распределяется между активным сопротивлением внешней цепи и плазмой, причем в плазму мощность поступает по двум каналам: индуктивному, существующему благодаря току, текущему по индуктору (антенне), и емкостному, обусловленному наличием емкостной связи между антенной и плазмой.

Изделие представляет собой плоскую (планарную) или цилиндрическую систему безэлектродного высокочастотного индукционного разряда. Система сеток может применяться для экстракции (вытягивания) ионов заданной энергии.

Назначение:

ВЧ-источники плазмы предназначены для инициации и поддержания плотной, низкоэнергетичной плазмы или потока моноэнергетичных ионов с высокой однородностью в вакуумном технологическом оборудовании.

Решаемые задачи:

  • анизотропное травление субмикронных структур в резисте в производстве микроэлектроники;
  • алмазо-химическое осаждение бездефектных функциональных диэлектрических слоев оптики, полупроводниковых приборов, тонкопленочных гибридных интегральных схем;
  • синтез полимерных покрытий и новых материалов;
  • анализ материалов в масс-спектрометрии с применением индуктивно-связанной плазмы;
  • модификация диэлектрических поверхностей с целью придания новых свойств таких, как например гидрофильность.

Используется в оборудовании Lidiz.

Технические характеристики:

Характеристика Номинально Опционально
Тип источника ВЧ-источник индуктивно-связанной плазмы
Рабочее давление 0,05 ÷ 100 Па
Диаметр пучка 80, 120, 180 мм по запросу
Расположение цилиндрической антенны на атмосфере по запросу
Диаметр планарной антенны 200 мм по запросу
Материал сеток (при наличии) Mo, Ti по запросу
Питание RF (13,56MHz) по запросу
Плотность ионного тока на подложке <15 мА/см2
Максимальная мощность <2000 Вт
Поток газа (зависит от откачки и размеров рабочей камеры) 5…50 см3/мин
Охлаждение индуктор – проточная вода, разрядная камера цилиндрической антенны – принудительное воздушное
Температура воды 18…25 °C
Проток воды >0,7 л/мин/кВт
Рабочие газы Ar, O2 и др.
Чистота рабочих газов 99.99 %

 

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “ВЧ-источники плазмы/сеточные ионные источники”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Прокрутить вверх