Cluster®

Вакуумная установка, совмещающая технологию ЭЛИ и магнетронного распыления в одном вакуумном цикле

Особенности:

• Магнетронное и электронно-лучевое осаждение покрытий на две стороны подложки в одном технологическом процессе
• Полностью автоматизированная система оптического контроля в диапазоне длин волн от УФ до среднего ИК (модуль ЭЛИ)
• Система кварцевого контроля толщины и скорости покрытия (модуль магнетрона и модуль ЭЛИ)
• Возможность встраивания оборудования в чистую комнату

В состав оборудования входят три модуля:

Технологический модуль ЭЛИ – предназначен для нанесения покрытий методом электронно-лучевого испарения с одновременным ионным ассистированием на одну сторону подложки.

Магнетронный технологический модуль – предназначен для нанесения покрытий методом магнетронного напыления мишени с предварительной ионной ВЧ-очисткой на вторую сторону подложки.

Модуль загрузки – обеспечивает ручную установку подложек на подложкодержатель и автоматическое перемещение подложкодержателя в технологические модули без развакуумирования технологических вакуумных камер.

Покрытие наносят на подложки, закрепленные на дисковом подложкодержателе. Полная автоматизация процессов ионной очистки и ассистирования, испарения и напыления, использование кварцевого и оптического контроля позволяет получать покрытия с требуемыми свойствами и гарантированной воспроизводимостью.

Технические характеристики:

Технологические устройства:

• DC-магнетроны
• ВЧ-магнетроны
• ЭЛИ
• Резистивный испаритель
• ВЧ ионный источник
• Ионно-лучевой источник очистки