Магнетронная вакуумная напылительная установка для лабораторных исследований
Вакуумная установка позволяет получать покрытия методом магнетронного распыления. Нанесение покрытий осуществляется на подложки, установленные на подложкодержатель дискового типа.
Технические характеристики:
| Максимальный диаметр подложки | 200 мм |
| Предельное остаточное давление в чистой технологической вакуумной камере | 5х10-4 Па |
| Предельная неравномерность покрытий по толщине | ± 3,0 % |
| Контроль покрытий | – Система кварцевого измерения толщины
– Контроль по времени |
Технологические устройства:
- DC-магнетроны
- Pulse-DC Магнетрон
- Ионно-лучевой источник очистки
- RF- магнетрон
Отзывы
Отзывов пока нет.