Установка для плазмохимического и реактивного ионного травления с активацией плазмой индукционного разряда (ICP)
Особенности:
- Процесс травления является сухим
- Отсутствие радиационных повреждений подложки при одновременно высокой плотности плазмы
- Высокая избирательность процесса травления
- Высокие скорости травления
- Низкая температура процесса
- Возможность травления подложек со сложным рельефом
- Возможность реализации глубокого плазменного травления
- Широкий перечень травящихся материалов
- Полностью автоматическая система согласования импеданса ICP
- Широкий спектр опций позволяющих расширять возможности данной вакуумной установки и решить любые задачи ICPRIE метода травления
- Настройка расстояния между ICP и подложкой
Дополнительные опции:
- Шлюзовая вакуумная камера с устройством автоматической загрузки образцов в технологическую вакуумную камеру
- Скруббер для очистки выхлопа
- Газораспределительный шкаф для токсичных, горючих и взрывоопасных газов
- Термостат
- Система нагрева стенок камеры и трубопроводов
- Дополнительный внешний контур откачки для достижения экстремальной чистоты процесса нанесения
- Дополнительные газовые линии
- Система напуска камер Азотом (N2)
Технические характеристики:
| Предельное остаточное давление в чистой технологической камере | 9х10-4 Па |
| Максимальный диаметр подложки | 200 мм |
| Максимальная толщина подложки | 3 мм |
| Материал подложки | Арсенид галлия (GaAs), кремний (Si), стекло и др. |
| Расстояние от индукционного ВЧ разряда до подложкодержателя | Регулируемое для достижения необходимой равномерности |
| Газовая система | Интегрированная конфигурируемая мультиканальная газовая станция, с возможностью установки до 10 каналов газа |
Дополнительные возможности:
- Система подачи жидких реагентов
- Электростатический прижим подложки
- Исполнение подложкодержателя с подачей высокочастотного смещения, что позволяет регулировать энергетический спектр плазмы
- Оптическая эмиссионная спектроскопия
- Интеграция в чистую комнату
- Система термостабилизации подложки с подачей гелия (He) под нижнюю часть подложки
Отзывы
Отзывов пока нет.