Вакуумная установка для одностороннего или двустороннего напыления металлов
Особенности:
- Система электронного испарителя с кольцевым катодом
- Система резистивного испарения
- Система магнетронного распыления
- Система ионно-лучевой очистки
- Двустороннее или одностороннее напыление
- Подложкодержатель барабанного типа (горизонтальный)
Технологические устройства:
- Магнетроны
- Ионно-лучевой источник очистки
- Система резистивного испарения
- Электронный испаритель с кольцевым катодом
Технические характеристики:
| Versus®-74 | Versus®-74М | |
| Предельное остаточное давление в чистой технологической вакуумной камере | 8х10-4 Па | |
| Размеры подложек (при использовании стандартных подложкодержателей) | 48×60×1,0 мм; 48×60×0,5 мм;
48×60×0,25 мм; 30×24×0,3 мм; 30×24×0,2 мм |
48×60×1,0 мм; 48×60×0,5 мм;
48×60×0,25 мм; 30×24×0,3 мм; 30×24×0,2 мм Ø 76 мм, Ø 100 мм |
| Максимальное количество подложек в загрузке (из расчета использования подложек размером 48×60 мм) | 57 шт | |
| Технологические устройства | Резистивный испаритель, Электронный испаритель с кольцевым катодом | Магнетроны (до 4 шт. на внешних фланцах), Ионно-лучевой источник очистки |
| Предельная неравномерность покрытий по толщине | ± 15,0 % | ± 5,0 % (в случае использования магнетронов)
± 15,0 % (в случае использования системы резистивного испарения и электронного испарителя с кольцевым катодом) |
| Система откачки | Безмасляная откачка на базе турбомолекулярного или криогенного насосов | |
| Контроль покрытий | – Система измерения сопротивления «свидетеля»
– Система кварцевого измерения толщины |
|
Отзывы
Отзывов пока нет.